KD165真空爐防漏保護(hù)裝置
不詳 ?佚名 ? 2012年06月01日 ? ?科技對(duì)接
自主研制的一種真空爐防漏保護(hù)裝置、配方及制備工藝。這個(gè)防漏裝置能使坩堝內(nèi)液體流出時(shí)進(jìn)入本裝置內(nèi)，不會(huì)使真空爐體受損壞，可以阻止危險(xiǎn)事故的發(fā)生。而且特殊金屬熔化后的液體流到裝置內(nèi)，其原料不會(huì)污染還可以重新使用。此裝置制造材料方便、成本低、抗沖擊、抗2400℃高溫度，效果好。目前，用真空爐提煉高純度的金或硅時(shí)，密封的爐體內(nèi)的溫度一般高達(dá)1700℃以上，在如此高的溫度下就會(huì)造成原料液滲漏，以至于流到真空爐底，爐底無法承受如此高的溫度，而使?fàn)t體被擊穿，造成爐體中的冷卻水遇到高溫而被分解產(chǎn)生大量氣體，使?fàn)t體瞬間產(chǎn)生高壓氣體而產(chǎn)生爆炸，國內(nèi)外至今無法解決因坩堝破裂而產(chǎn)生料液擊穿真空爐底而產(chǎn)生的爆炸問題。針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，本項(xiàng)目產(chǎn)品，提供一種安全可靠、即使坩堝破裂也不會(huì)因?yàn)榱弦簼B漏擊穿真空爐底而造成爆炸的真空爐防漏保護(hù)裝置、配方及制備工藝，能夠很好的解決國內(nèi)外至今還無法解決的提煉過程中因坩堝破裂而產(chǎn)生的料液擊穿真空爐底而產(chǎn)生的爆炸問題。
技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)：在真空爐底部增加一個(gè)防漏保護(hù)裝置，能夠確保在真空爐內(nèi)熔煉坩堝破裂或被熔煉的液態(tài)原料滲漏而擊穿真空爐底的情況下，真空爐體不發(fā)生爆炸；裝置制備工藝方便，可由以電極糊80～95%，碳化硅2～8%，三氧化二鋁1～9%，氧化鎂2～7%，濃度為95%的碳酸鈉溶液1～9%，水1～8%為主成分中任意配比組成的物質(zhì)制成；能將破裂機(jī)率降低到1/10000以下；設(shè)備性能可靠耐用、壽命長、操作方便。
技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)：在真空爐底部增加一個(gè)防漏保護(hù)裝置，能夠確保在真空爐內(nèi)熔煉坩堝破裂或被熔煉的液態(tài)原料滲漏而擊穿真空爐底的情況下，真空爐體不發(fā)生爆炸；裝置制備工藝方便，可由以電極糊80～95%，碳化硅2～8%，三氧化二鋁1～9%，氧化鎂2～7%，濃度為95%的碳酸鈉溶液1～9%，水1～8%為主成分中任意配比組成的物質(zhì)制成；能將破裂機(jī)率降低到1/10000以下；設(shè)備性能可靠耐用、壽命長、操作方便。
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